우리는 반도체 강국에서 살고 있다. 반도체 공정 관련 뉴스를 보게 되면 몇 나노 공정 하면서 시끌벅쩍하다.... 10나노... 7나노 등 하면서 엄청 작아진다. 근데 우리는 아이러니한 광경을 보게 된다. 삼성전자, SK 하아닉스, TSMC에서 EUV 공정을 통해 반도체 제작이라는 문구들을 볼 수 있다. EUV는 극자외선 공정으로 기존의 파장에 비해 엄청 작은 (14nm 의 파장) 파장을 이용하여 패턴 제작을 한다. 그 전에 10나노 라던지.. 7나노 하는데. 왜 EUV에 목숨을 거는건지... 의구심이 든다. 공정상이 듀얼, 쿼터 패터닝에 의해 구현하고 있지만 여기서 말하는 10나노, 7나노는 패턴 사이즈가 아니라는 것이다. 넓은 범위에서 의미한다면 틀린 표현은 아니지만. 반도체에서의 패턴 크기가 곧.. ..
